비아트론, '3D 메모리 에피 장비' 국책과제 주관기관 선정 작성일 05-06 29 목록 <div id="layerTranslateNotice" style="display:none;"></div> <strong class="summary_view" data-translation="true">100억원 규모 산업부 과제 수주..."내년 양산성 평가"</strong> <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> <section dmcf-sid="PQuFdNHlAh"> <p contents-hash="69fefea5d0d9f28bd7f2085ea569e35721a2e817f4b7a886897b8a0945575e95" dmcf-pid="Qx73JjXSAC" dmcf-ptype="general">(지디넷코리아=이기종 기자)디스플레이 열처리 장비가 주력인 비아트론이 산업통상부와 한국산업기술기획평가원(KEIT)이 주관하는 반도체 공정장비 국책과제 <span>주관기관에 선정됐다고 6일 밝혔다. </span></p> <p contents-hash="6e1681b044343d7ac70c1779f09b758be486ed8525fe308ada1f707ca274783d" dmcf-pid="xMz0iAZvNI" dmcf-ptype="general"><span>비아트론이 수주한 과제는</span><span> '3D 수직적층 메모리용 실리콘·실리콘게르마늄(Si·SiGe) 증착과 웨이퍼 계측·검사가 융합된 UPH 5매/h 이상 고생산성 에피택시 장비 개발'이다. </span></p> <p contents-hash="b53385294c9046556a2bec230443126536b610e1483de253ebd0329cf50fdcfd" dmcf-pid="yWENZUiPAO" dmcf-ptype="general">과제 수행기간은 이달부터 2028년 12월까지다. 총 연구비는 100억원이다. 비아트론은 더블유지에스, 연세대 산학협력단, 한국표준과학연구원 등과 컨소시엄을 구성했다. </p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="14d06e92cac9f3b62c8561a18ba1e6e05f233112179eaaf69ee6fe081b39b7fc" dmcf-pid="WYDj5unQNs" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="비아트론 에피택시 CVD 장비 (자료=비아트론)" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202605/06/ZDNetKorea/20260506145313376lyxx.png" data-org-width="640" dmcf-mid="6KrctzoMgl" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img1.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202605/06/ZDNetKorea/20260506145313376lyxx.png" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 비아트론 에피택시 CVD 장비 (자료=비아트론) </figcaption> </figure> <p contents-hash="f5c8fc5eabef649492ab78792b4544892aba126f28093d603f4148c989c38bee" dmcf-pid="YGwA17Lxgm" dmcf-ptype="general"><span>비아트론은 "유수 반도체 전공정 장비업체와 경합한 끝에 단독 주관기관으로 </span><span>선정됐다"고 강조했다. 비아트론이 밝힌 </span><span>차별화 요소는 </span><span>▲생산성(UPH) 극대화를 위한 급속온도 가변형 챔버·클러스터 시스템 개발 역량 ▲다층막 결함·파티클·두께 등을 실시간 확인하는 인-시스템(In-system) 검사·계측 광학 모듈 개발 역량 등이다. </span></p> <p contents-hash="1b07a035f4c49ceecfa3ab3130d30fb40455422c4862be6bd7bf14d789306bf7" dmcf-pid="GHrctzoMor" dmcf-ptype="general">비아트론은 "인공지능(AI)이 주도하는 고성능 컴퓨팅 수요 확대가 D램 디자인 룰(rule) 변화를 촉진해 3D D램으로 진화하고 있다"며 "기존 에피택시 화학기상증착(CVD) 장비 생산성 한계(UPH 1매 이하)는 핵심 병목 중 하나"라고 밝혔다. </p> <p contents-hash="d6e2955b631ed90bf3607ee1c535722d8323e6f71d432cb85c1d77c4088622e9" dmcf-pid="HXmkFqgRNw" dmcf-ptype="general">이어 "3D D램 제조 공정은 Si·SiGe 100단 증착부터 시작하는데, 기존 장비 생산성으로는 3조원 이상 비용이 발생한다"며 "비아트론 에피택시 CVD 장비는 기존 장비 대비 5배 이상 생산성과 인-시스템 계측·검사를 통한 모니터링으로 수율을 극대화할 수 있다"고 밝혔다. 비아트론은 "내년부터 글로벌 반도체 업체와 양산성 평가를 시작할 예정"이라고 덧붙였다. </p> <p contents-hash="8392b5929d97e5276acdc44bdff68cdba6287500846a90815dc3b656b583c305" dmcf-pid="XZsE3BaegD" dmcf-ptype="general">비아트론은 5년 전부터 첨단 에피택시 CVD 장비와 어드밴스드 패키징 장비 등 반도체 장비로 사업을 확대하려 노력해왔다. 최근 공개한 2025년 사업보고서에서 사업화를 기대하는 반도체 장비가 ▲레이저 기반 RT(Rapid Thermal)-CVD ▲다이 본더 ▲레이저 어시스티드 본더(LAB) ▲하이브리드 본더 등이라고 밝혔다. 비아트론이 사업보고서에서 해당 반도체 장비 사업화를 추진 중이라고 밝힌 것은 이번이 처음이다.</p> <p contents-hash="f1c39259e7f068540f708086e727985ef1dbe082d04a7b65a374822cd4efbd7b" dmcf-pid="ZRqpnc5TNE" dmcf-ptype="general">비아트론은 "지난 2023년 1조6000억원 규모였던 에피택시 장비 시장은 3D DRAM이 본격 등장하는 2030년대에 폭발적 성장이 예상된다"며 "올해는 지난 5년간 노력을 조금씩 보여드릴 수 있을 것"이라고 밝혔다. </p> <p contents-hash="5e52931ed74226e9c674966eac44f68fc5d4b2e816ea56e32d95822b03eb81cd" dmcf-pid="5eBULk1ykk" dmcf-ptype="general">이기종 기자(gjgj@zdnet.co.kr)</p> </section> </div> <p class="" data-translation="true">Copyright © 지디넷코리아. 무단전재 및 재배포 금지.</p> 관련자료 이전 차승원이 굽고 김희애가 서빙한다…어르신들 핫플 ‘봉주르빵집’ 오픈 05-06 다음 '바둑거장' 이세돌-이창호 "AI시대, 생각 주도권 갖고 기본 충실해야" 05-06 댓글 0 등록된 댓글이 없습니다. 로그인한 회원만 댓글 등록이 가능합니다.
