인텔·ASML, 하이 NA EUV 양산 확대⋯웨이퍼 100만장 적용 작성일 09-08 47 목록 <div id="layerTranslateNotice" style="display:none;"></div> <strong class="summary_view" data-translation="true">팬서레이크 일부 공정에 활용⋯처리량·가동률 등 기대치 충족<br>기존 6인치 마스크 활용 지원⋯향후 6×12인치 대형 마스크로 확대</strong> <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> <section dmcf-sid="yuARDWAiyH"> <p contents-hash="1c077d0fd5ce328663c3166c0e904a88d5cf80835bcea08b713fcb33d9684f3f" dmcf-pid="W7cewYcnvG" dmcf-ptype="general">[아이뉴스24 황세웅 기자] 차세대 반도체를 더 미세하게 만드는 핵심 기술인 하이 NA(Numerical Aperture·고개구율) 극자외선(EUV) 노광 기술이 연구개발(R&D)을 넘어 실제 반도체 양산 공정으로 확대되고 있다.</p> <p contents-hash="cb5ca446287c67e27b5d48f4e982286938e90cc29f8870e01b09df940893382d" dmcf-pid="YzkdrGkLTY" dmcf-ptype="general">인텔 파운드리와 ASML은 8일(현지시간) 미국 캘리포니아 몬터레이에서 열리는 'SPIE 포토마스크 테크놀로지 + 극자외선 리소그래피' 행사에서 하이 NA EUV 양산 적용 현황과 향후 기술 계획을 공개했다.</p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="b55ae294daafd7082a8335174575793f6b3e1edcc1bc29311861a059387212eb" dmcf-pid="GqEJmHEoWW" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="인텔 팹(Fab) 25에 위치한 ASML의 EXE 5000 하이 NA EUV 장비. [사진=인텔]" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202609/08/inews24/20260908173110970jnrf.jpg" data-org-width="630" dmcf-mid="BaB52iB3yz" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img1.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202609/08/inews24/20260908173110970jnrf.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 인텔 팹(Fab) 25에 위치한 ASML의 EXE 5000 하이 NA EUV 장비. [사진=인텔] </figcaption> </figure> <p contents-hash="3f0139b0d64674b3a25e56eb06c3d8bf6b2a6383a5a026699fa3f489fd4da531" dmcf-pid="HBDisXDgCy" dmcf-ptype="general">하이 NA EUV는 기존 EUV보다 더 미세한 회로를 웨이퍼에 그릴 수 있도록 해주는 차세대 노광 기술이다. 반도체 회로가 점점 작아지면서 한 번에 더 정교한 회로를 구현하기 위한 기술로 주목받고 있다.</p> <p contents-hash="b84378927155e4c71d1a6e23161e3788f6344181801cafe8b3a285d2270dfa9b" dmcf-pid="XbwnOZwaWT" dmcf-ptype="general">인텔 파운드리는 현재까지 하이 NA EUV를 100만장 이상의 웨이퍼 공정에 적용했다. 장비 인증과 시험, 연구개발뿐 아니라 코드명 '팬서레이크'인 인텔 코어 울트라 시리즈 3 프로세서의 일부 레이어 양산에도 활용했다.</p> <p contents-hash="704d9f5fea5f58fc022fcffbf833db1c54b3b01af98e52155ce4cea567053e9c" dmcf-pid="ZKrLI5rNTv" dmcf-ptype="general">인텔에 따르면 하이 NA EUV 장비의 오버레이(회로를 여러 번 겹쳐 그릴 때의 정밀도)와 처리량, 가동률은 회사의 기대치를 충족하고 있다.</p> <p contents-hash="fa52b831ab0403864a69e57d0adcedf08eb6324cdeb1d7d05a3527f8e577571f" dmcf-pid="5RWrXBWICS" dmcf-ptype="general">인텔 18A 공정에서도 일부 레이어에 하이 NA EUV가 적용됐다. 인텔은 하이 NA EUV로 만든 제품이 기존 0.33 NA EUV 장비인 NXE 플랫폼으로 같은 회로를 만든 경우와 비교해 대등하거나 더 나은 성능을 보이고 있다고 설명했다.</p> <p contents-hash="0f6d4209dfb55e4992b0e3d3ffc27eda420bdea24ff7d19b53c7612dd809338c" dmcf-pid="1eYmZbYCWl" dmcf-ptype="general">양사는 하이 NA EUV 도입의 걸림돌로 꼽히는 포토마스크 문제에도 대응하고 있다.</p> <p contents-hash="d9ec04ff459e81b8c5b429eb435af91f044dec590049bf6b6d99c264df608601" dmcf-pid="tdGs5KGhWh" dmcf-ptype="general">현재 반도체 업계에서 널리 사용하는 6인치 마스크를 그대로 활용할 수 있도록 회로를 나눠 노광한 뒤 연결하는 '스티칭' 기술과 공정설계키트(PDK)를 지원한다.</p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="f6b5141ecd3f17ebabf9d47de989aefa218ae7c28bdff329defc6160d67a2f39" dmcf-pid="FJHO19HlTC" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="인텔 파운드리의 최첨단 공정 노드 인텔 18A. [사진=인텔]" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202609/08/inews24/20260908173111250fqhr.jpg" data-org-width="580" dmcf-mid="xhCjv0CEWX" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img1.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202609/08/inews24/20260908173111250fqhr.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 인텔 파운드리의 최첨단 공정 노드 인텔 18A. [사진=인텔] </figcaption> </figure> <p contents-hash="6d3b4c4d8ae0017d598934659d84577f85b98bf73864436c410e19f91a5c848f" dmcf-pid="3iXIt2XSWI" dmcf-ptype="general">고객사가 새로운 규격의 마스크를 바로 도입하지 않아도 하이 NA EUV를 사용할 수 있도록 하기 위한 것이다.</p> <p contents-hash="a7f89f9b52611dd04472fe31384bbbff10b07dec7a85ee3e2702e63da867b6de" dmcf-pid="0nZCFVZvTO" dmcf-ptype="general">장기적으로는 6×12인치 크기의 대형 마스크 생태계 구축도 추진한다. 인텔은 ASML을 비롯해 마스크 제조사, 자동화·EDA·소재 업체 등과 대형 마스크에 필요한 표준과 인프라 구축을 논의해 왔다.</p> <p contents-hash="ea31be72174424b04ba714a020992c70198a4d1aea401aac42ec0f2a357ef6cf" dmcf-pid="pL5h3f5Ths" dmcf-ptype="general">인텔과 ASML의 이번 협력은 하이 NA EUV의 경쟁이 단순히 장비 성능을 높이는 단계를 넘어 실제 공장에서 얼마나 안정적으로 생산하고 기존 반도체 제조 생태계와 연결할 수 있는지를 확인하는 단계로 옮겨가고 있음을 보여준다.</p> <p contents-hash="ad10a0d60576cfca351c6754e7c635ef551f7c46c0aff23a4544f13e74f11422" dmcf-pid="Uo1l041yvm" dmcf-ptype="general">크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO)는 "인텔 파운드리는 2024년 최초의 상용 EXE 시스템 도입부터 하이 NA로 제조된 첫 양산형 로직 제품 출하까지 산업의 하이 NA 도입을 이끈 핵심 기업 중 하나"라고 말했다.</p> <p contents-hash="a0a621a98828414ddeed4f4ef14671002d10f830028e0efeedc1a1f053b7938f" dmcf-pid="ugtSp8tWWr" dmcf-ptype="general">나가 찬드라세카란 인텔 수석 부사장은 "단기적으로는 6인치 마스크에서 하이 NA를 지원하고 장기적으로는 6×12인치 마스크로 전환하는 데 집중하고 있다"고 밝혔다.</p> <address contents-hash="2e8546117968a1772fd5291d2d1fe693d07f1dabc208b341f6ed8e362848bdd2" dmcf-pid="7aFvU6FYyw" dmcf-ptype="general">/황세웅 기자<a href="mailto:hseewoong89@inews24.com" target="_blank">(hseewoong89@inews24.com)</a> </address> </section> </div> <p class="" data-translation="true">Copyright © 아이뉴스24. 무단전재 및 재배포 금지.</p> 관련자료 이전 베스핀글로벌, K-푸드 수출 돕는 AI 만든다…공공 AX 영역 확대 09-08 다음 시높시스, 앤시스 통합 효과 본격화··· 'EDA 넘어 피지컬 AI까지 확장' 09-08 댓글 0 등록된 댓글이 없습니다. 로그인한 회원만 댓글 등록이 가능합니다.
